Actualmente la litografía más pequeña disponible son los 7 nm de TSMC para los iPhone XS, XS Max y XR con el Apple A12 Bionic. En 2019 se sumará Samsung, y AMD lanzará los primeros procesadores y tarjetas gráficas de 7 nm. Sin embargo, IBM está empezando a ver los resultados de su inversión más allá de los 7 nm, y han conseguido una interesante innovación relacionada con el grafeno.
La iniciativa «7 nm and beyond» sigue dando sus frutos
Hace 4 años, IBM anunció que iba a invertir 3.000 millones de dólares durante un periodo de 5 años para investigar sobre el futuro de la nanoelectrónica bajo el proyecto “Más allá de los 7 nm”. Y es que, aunque algunos fabricantes saben más o menos por donde van a tirar para crear litografías de 5 y hasta 3 nm, muchas dudas hay sobre lo que ocurrirá después.
grafeno mientras van depositando los nanomateriales en la parte superior. El nanomaterial se arrastra hacia abajo y queda atrapado entre los electrodos de grafeno opuestos. Con esto, el grafeno define la ubicación y la orientación del campo eléctrico para que se deposite el nanomaterial. En el cuarto paso, los electrodos de deposición del grafeno son desechados, y por último se realizan pasos finales para integrar los dispositivos electrónicos definitivos.
Principal problema de este sistema: su implementación a gran escala
Hasta ahora, la mejor tecnología disponible usaba electrodos de metal, los cuales son difíciles de eliminar y limitan el rendimiento y la integración potencial del dispositivo final al dejar surcos. Este es una de las grandes mejoras que introduce el grafeno, que permite que disponer los nanomateriales sin que queden residuos, y limitan la exposición a químicos del dispositivo final. Con este sistema se consigue también una mayor precisión a la hora de colocar los nanomateriales, por lo que se abre la puerta a bajar de nanómetros.
Este proceso, aunque esperanzador, no va a suponer una solución inmediata a la imposibilidad de seguir con la Ley de Moore en la actualidad. El principal problema al que se enfrentan de momento es utilizarlo a escala industrial. Primero es necesario estandarizar las soluciones de nanomateriales para conseguir resultados consistentes y repetibles, además de adaptar la utilización del método del campo eléctrico.
